半导体行业深度报告：受益产能转移与政策驱动，靶材行业国产替代趋势明确 43页

'股票报告网整理http://www.nxny.com目录1靶材主要用于半导体、面板及光伏等领域溅射镀膜工艺，全球市场规模约百亿美金41.1靶材主要用于PVD（物理气相沉积）溅射镀膜过程41.2生产工艺复杂，金属提纯及晶粒晶向控制构成技术壁垒61.3应用领域主要包括半导体、面板、光伏及光学器件81.3.1半导体靶材：用于晶圆导电阻挡层及封装金属布线层制作81.3.2面板靶材：主要用于制作ITO玻璃及触控屏电极91.3.3光伏靶材：用于形成太阳能薄膜电池的背电级101.3.4光学器件靶材：使用光学镀膜改变光波传导特性111.4全球市场空间约百亿美金，国内需求约占四分之一111.4.1全球市场规模约百亿美金，面板是最大应用领域111.4.2国内市场空间约150亿人民币，面板靶材占比接近1/2132下游半导体及面板行业产能转移及国产替代趋势确定142.1半导体晶圆制造产业转移趋势确定，本土产能放量在即142.2平板显示已实现弯道超车，大陆面板产能占比全球第一163政策驱动叠加技术突破，本土靶材制造有望迅速崛起183.1日美跨国集团主导全球靶材制造以及上游高纯金属产业183.1.1日美跨国集团主导全球靶材制造产业183.1.2全球靶材制造龙头把控上游高纯金属生产制造环节203.2政策加码，本土靶材产业有望迅速崛起213.2.102专项和863计划推动国产靶材实现从0到1的跨越213.2.2大基金推动国产半导体材料龙头从1到10实现弯道超车223.3国产靶材技术水平跻身国际一流，实现本土产线中大批量供货243.3.1国产靶材已实现对全球主流客户本土产线中大批量供货243.3.2突破专利封锁，目前已具备和国际巨头同等竞争水平263.4国内靶材龙头正加大横向拓展与产业延伸力度283.4.1加大产业上游高纯金属生产延伸力度283.4.2横线拓展应用领域，面板靶材成为聚焦点294投资逻辑294.1投资主线294.2重点公司304.2.1江丰电子（300666.SZ）——国内溅射靶材龙头，打造世界级靶材企业304.2.2阿石创（300706.SZ）——国内领先的光学器件溅射靶材与蒸镀材料供应商314.2.3隆华节能（300263.SZ）——新材料业务产业多元化发展，面板靶材有望迎来突破324.2.4有研新材（600206.SH）——深耕新材料业务的控股型企业，封装靶材国内领先335风险提示35若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表目录图表1：溅射镀膜基本原理示意图4图表2：溅射技术发展至今经历了六大阶段5图表3：不同应用领域需要用到不同材料、不同形状的靶材5图表4：铝靶生产需要经过塑性变形、热处理等多道工艺处理6图表5：熔炼铸造法和粉末烧结法是最主要的两大技术路径7图表6：高纯溅射靶材生产中五大核心技术是影响靶材质量的关键7图表7：溅射靶材分类及用途8图表8：溅射靶材主要用晶圆溅射镀膜环节及封装金属材料制作9图表9：平板显示行业镀膜工艺示意图10图表10：太阳能电池分为晶体硅和薄膜电池10图表11：光伏靶材主要用于形成太阳能薄膜电池的背电极11图表12：全球靶材市场空间约在百亿美金（2015年）12图表13：2013-2016全球晶圆制造及封装材料细分市场销售规模（单位：亿美元）13图表14：国内市场空间约150亿人民币，面板需求占比接近1/214图表15：全球晶圆代工产能向中国大陆迁移的趋势明显14图表16：大基金成立以来投资了国内多家IDM及FOUNDRY企业15图表17：中国大陆在建晶圆代工产线统计(不完全统计)16图表18：我国平板显示行业产业规模迅速增长17图表19：中国大陆TFT-LCD占比超过30%17图表20：京东方与华星光电市场份额持续增加17图表21：中国大陆在建面板产线统计18图表22：全球靶材市场被几大制造商占据19图表23：技术壁垒、客户认证壁垒、资金壁垒和人才壁垒形成行业垄断格局19图表24：日美综合型材料和制造集团主导全球靶材产业20图表25：溅射靶材已发展成为较为成熟的产业链21图表26：近年国家对靶材的政策扶持力度不断加大22图表27：制造环节占大基金投资比重的63%23图表28：近年国家对靶材的政策扶持力度不断加大23图表29：A股涉及靶材相关业务的公司有江丰电子、有研新材、阿石创、以及隆华节能等24图表30：我国主要靶材企业覆盖应用领域及下游客户情况25图表31：江丰电子前五大客户包括台积电、中芯国际、联电三大主流晶圆代工厂26图表32：靶材企业商标与专利情况27图表33：靶材已成为中芯国际第二大验证通过材料类别27图表34：江丰电子计划建设的年产300吨电子级超高纯铝生产项目已投入29%的资金29图表35：重点公司估值表30图表36：江丰电子主要产品30图表37：江丰电子财务指标31图表38：阿石创主要产品32图表39：阿石创财务指标32图表40：隆华节能主要产品33图表41：隆华节能财务指标33图表42：有研新材主要产品34图表43：有研新材财务指标34若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com1靶材主要用于半导体、面板及光伏等领域溅射镀膜工艺，全球市场规模约百亿美金1.1靶材主要用于PVD（物理气相沉积）溅射镀膜过程高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%（3N-6N之间）的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积(PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材图表1：溅射镀膜基本原理示意图资料来源：江丰电子招股说明书，方正证券研究所自19世纪中期至今，溅射镀膜技术经历了170年的沉淀与发展逐步走向成熟。溅射镀膜技术起源于国外，所需要的溅射材料——靶材也起源发展于国外。1842年格波夫在实验室中发现了阴极溅射现象，由于人们对溅射机理缺乏深入了解且溅射薄膜技术发展缓慢，商业化的磁控溅射设备直到1970年才逐渐应用于实验室和小型生产。自20世纪80年代，以集成电路、信息存储、液晶显示器、激光存储器、电子控制器为主的电子与信息产业开始进入高速发展时期，磁控溅射技术才从实验室应用真正进入工业化规模生产应用领域。近10年来，溅射技术更是取得了突飞猛进的发展。相比PVD另一大工艺真空镀膜，溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表2：溅射技术发展至今经历了六大阶段21世纪以来20世纪80年代新型溅射技术20世纪70年代出现，高纯金溅射技术进入属溅射靶材成20世纪初期磁控溅射技术工业化大量生为热点材料出现，应用于产的应用领域19世纪中后只有化学活性极实验和小型生1842年对溅射机理的强的材料、介质产材料等采用溅射认同以及相关技术罗格夫在实验技术发展缓慢室发现了阴极溅射现象资料来源：新材料在线，方正证券研究所根据应用领域的不同，靶材的材料、形状也会有所差异。根据形状可分为长（正）方体形、圆柱体形、无规则形以及实心、空心靶材，根据材料可分为金属材料（纯金属铝/钛/铜/钽等）、合金材料（镍铬/镍钴合金等）、无机非金属（陶瓷化合物：氧化物/硅化物/碳化物等）、复合材料靶材。图表3：不同应用领域需要用到不同材料、不同形状的靶材资料来源：阿石创招股说明书，方正证券研究所若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com1.1生产工艺复杂，金属提纯及晶粒晶向控制构成技术壁垒靶材的生产需要经过预处理、塑性加工、热处理、焊接、机加、净化、检测等多道工艺处理，塑性变形再结晶过程需要重复进行。以铝靶材为例，一般是将铝原料进行熔炼（电子束或电弧，等离子熔炼）、铸造，将得到的锭或胚料进行热锻破坏铸造组织，使气孔或偏析扩散、消失，再通过退火使其再结晶化从而提高材料组织的致密化和强度，进而经过焊接、机加和清洗等步骤最终制备成靶材。根据靶材材料以及用途的不同，制备工艺主要包含熔炼铸造法和粉末烧结法两大技术路径。1）熔炼铸造法：高纯金属如Al、Ti、Ni、Cu、Co、Ta、Ag、Pt等具有良好的塑性，直接采用物理提纯法熔炼制备的铸锭或在原有铸锭基础上进一步熔铸后，进行锻造、轧制和热处理等热机械化处理技术进行微观组织控制和坯料成型。2）粉末烧结法：对于W、Mo、Ru等难熔金属及合金，由于材料的熔点高、合金含量高、易偏析、本征脆性大等原因，采用熔炼法难以制备或者材料性能无法满足溅射需求时，需要采用粉末烧结法制备。首先进行粉体材料的预处理，包括采用粒度和形貌合适的高纯金属粉末进行均匀化混合、造粒等，再选择合适的烧结工艺，包括冷等静压（CIP）、热压(HP)、热等静压(HIP)及无压烧结成型等。图表4：铝靶生产需要经过塑性变形、热处理等多道工艺处理资料来源：江丰电子招股说明书，方正证券研究所若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表5：熔炼铸造法和粉末烧结法是最主要的两大技术路径制备工艺常见种类特点熔炼铸造法真空感应熔炼、真空电弧熔炼、真空电子轰击熔炼粉末法相比，熔炼合金靶材的杂质含量(特别是气体杂质含量)低，且能高密度化、大型化。但对于熔点和密度相差都很大的几种金属，熔炼法一般难以获得成分均匀的合金靶材。粉末烧结法热压、真空热压、热等静压(HIP)容易获得均匀细晶结构、节约原材料、生产效率高。关键在于：选择高纯、超细粉末作为原料；选择能实现快速致密化的成形烧结技术，以保证靶材的低孔隙率，并控制晶粒度；制备过程严格控制杂质元素的引入。挤压工艺热挤压、冷挤压、温挤压主要用于制备铝、铜、钦、镍铬合金等塑性好的金属及合金旋转靶材。等离子喷涂法真空、水稳、气稳等离子喷涂主要用于制备脆性金属及合金、陶瓷靶材，如金属铬、硅、硅铝合金、氧化物等旋转靶材。资料来源：CNKI，方正证券研究所从工艺的难易程度来看，超高纯金属控制和提纯技术、晶粒晶向控制技术、异种金属大面积焊接技术、金属的精密加工及特殊处理技术、靶材的清洗包装技术是目前靶材生产过程中的五大核心技术。这五大技术在生产工艺中主要影响靶材的纯度、杂质含量、密实度、晶粒尺寸及尺寸分布、结晶取向与结构均匀性、几何形状与尺寸等，进而影响镀膜溅射效率及沉积薄膜的质量。其中，晶粒晶向控制技术主要通过塑形加工再结晶流程（TMP）即塑性加工——热处理——结晶退火来控制晶粒晶向，来使各晶粒的大小和排列方向相同，保证溅射成膜的均匀性和溅射速度，是靶材生产的核心技术。图表6：高纯溅射靶材生产中五大核心技术是影响靶材质量的关键技术功能方案产品要求超高纯金属控制和提纯技术减少靶材杂质。①提高材料导电性能②使互联线不易短路或断路→两大步骤：纯化（初步提纯）、超纯化（最终提纯）→提高纯度：化学+物理提纯半导体、显示器等领域对靶材纯度的要求十分严格：芯片、平面显示器、太阳能电池通常要求靶材纯度分别达到99.9995（5N5）、5N、4N5以上。晶粒晶向控制技术使各晶粒的大小和排列方向相同，保证溅射成膜的均匀性和溅射速度通常通过塑形加工再结晶流程（TMP）来控制晶粒晶向：塑性加工——热处理——结晶退火溅射时，靶材的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，所以需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法和热处理工艺进行靶材的结晶取向控制。异种金属大面积焊接技术连接靶胚和背板，起到靶材的固定作用电子束焊接、钎焊、扩散焊接等（熔点差距大的金属难以直接熔融焊接，需用HIP加压，通过扩散作用实现无缝连接）多数靶材(铜、钦、铝及其他)在溅射前须与背板绑定从而确保其溅射时导热导电状况良好，有效焊合率是评判绑定质量的标准，一般要求大于95以上。金属的精密加工及特殊处理技术利用精密机台使靶材的尺寸和形状与要镀膜的基片匹配包括微细加工、光整加工和精整加工等下游客户用于靶材溅射的机台十分精密，对溅射靶材的尺寸要求很高，较小的偏差会影响溅射反应过程和溅射产品的性能。靶材的清洗包装技术使靶材洁净程度满足生产要求真空、反复、全自动等由于靶材会直接用于晶圆生产，所以对洁净程度要求极高。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 资料来源：CNKI，方正证券研究所若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com1.1应用领域主要包括半导体、面板、光伏及光学器件集成电路、平板显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、光学器件、高档装饰用品等生产过程中均需要进行溅射镀膜工艺，溅射靶材应用领域非常广阔。对于靶材用量较大的行业主要有集成电路、平板显示器、太阳能电池、磁记录媒体、光学器件等。其中，高纯溅射靶材则主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域，如集成电路、平板显示器、太阳能电池、磁记录媒体、智能玻璃等行业。半导体芯片对溅射靶材的技术要求最高，价格也最为昂贵，对于靶材纯度和技术的要求高于平面显示器、太阳能电池等其他应用领域。半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，溅射靶材若杂质含量过高，形成的薄膜就无法达到使用所要求的电性能，并且在溅射过程中易在晶圆上形成微粒，导致电路短路或损坏，将严重影响薄膜的性能。一般而言，芯片制造对溅射靶材金属纯度的要求最高，通常要求达到99.9995%（5N5）以上，平板显示器、太阳能电池分别要求达到99.999%（5N）、99.995%（4N5）以上即可。图表7：溅射靶材分类及用途分类标准类别常用靶材（纯度5N=99.999）主要用途性能要求应用领域半导体用靶材钽（3N~6N）/铜（4N~6N）/钛（4N~5N）/铝（4N~6N）/金（5N）/镍（4N）高熔点金属/铬（3N）集成电路的关键原材料技术要求最高：纯度、尺寸、集成度平面显示器用靶材铝/铜/钼/镍/铌/硅/铬/ITO电视、笔记本的各型大面积膜层技术要求高：纯度、大面积、均匀性太阳能电池用靶材铝/铜/钼/铬/ITO/铟（4N）/AZO/ZnS、Ta（3N~4N）“窗口层”、阻挡层、电极与导电膜技术要求高，应用范围大信息存储用靶材钴（3N）/镍/铁合金/铬/碲、硒（4N）/稀土-迁移金属（3N）光驱与光盘的磁头、中间层、底层高储存密度、高传输速度工具改性用靶材钛、锆（3N）/铬/铬铝合金表面强化性能要求较高，长寿命电子器件用靶材铝合金（4N~6N）/硅化物（5N）薄膜电阻与电容尺寸小、稳定性、电阻温度系数小其他氧化物（3N）/石英（5N）/硅/钛、钽装饰镀膜与玻璃镀膜技术要求一般资料来源：方正证券研究所整理1.1.1半导体靶材：用于晶圆导电阻挡层及封装金属布线层制作在晶圆制作及芯片封装两大环节均需要用于到溅射靶材，其中在晶圆制造环节，靶材主要用于执着晶圆导电层、阻挡层以及金属栅极，而且在芯片封装环节，靶材用来生成凸点下金属层、布线层等金属材料。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 虽然靶材正在晶圆制造和芯片封装领域用量不大，根据SEMI的统计数据，靶材在晶圆制造及封装过程成本占比均约在若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com3%左右，但是由于溅射靶材的品质直接影响导电层、阻挡层的均匀程度及性能，进而影响芯片传输速度及稳定性，因此靶材是半导体生产的核心原材料之一。在晶圆制作环节，半导体用溅射靶材主要用于晶圆导电层及阻挡层和金属栅极的制作，主要用到铝、钛、铜、钽等金属，芯片封装用金属靶材于晶圆制作类似，主要有铜、铝、钛等。其中，晶圆制作导电层使用金属靶材主要有铝靶和铜靶，阻挡层使用金属靶材主要有钽靶和钛靶，阻挡层主要有两个作用，一方面是阻隔与绝缘，防止导电层金属扩散到晶圆主体材料硅中，另一方面作为黏附，用于粘结金属和硅材料。一般来说，110nm技术节点以上晶圆分别用铝、钛作为导线及阻挡层的薄膜材料，110nm以下晶圆分别使用铜，钽材料作为导线及阻挡层的薄膜材料，随着晶圆制程的缩小，未来对铜靶、钽靶以及制作金属栅极用钛靶的用量占比将不断提升。图表8：溅射靶材主要用晶圆溅射镀膜环节及封装金属材料制作资料来源：方正证券研究所整理1.1.1面板靶材：主要用于制作ITO玻璃及触控屏电极平板显示行业主要在显示面板和触控屏面板两个产品生产环节需要使用靶材溅射镀膜，主要用于制作ITO玻璃及触控屏电极，用量最大的是氧化铟锡（ITO）靶材，其次还有钼、铝、硅等金属靶材。1）平板显示面板的生产工艺中，玻璃基板要经过多次溅射镀膜形成ITO玻璃，然后再经过镀膜，加工组装用于生产LCD面板、PDP面板及OLED面板等；2）触控屏的生产则还需将ITO玻璃进行加工处理、经过镀膜形成电极，再与防护屏等部件组装加工而成。采用硅靶材溅镀形成的二氧化硅膜则主要起增加玻璃与ITO膜的附着力和平整性、表面钝化和保护等作用，MoAlMo（钼铝钼）靶材镀膜后蚀刻主要起金属引线搭桥的作用。此外，为了实现平板显示产品的抗反射、消影等功能，还可以在镀膜环节中增加相应膜层的镀膜。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表9：平板显示行业镀膜工艺示意图LCD面板电视、电脑、仪PDP面板表显示屏等OLED面板镀膜屏显玻璃基板ITO玻璃镀膜材料触控屏面板触控屏面板资料来源：阿石创招股说明书，方正证券研究所1.1.1光伏靶材：用于形成太阳能薄膜电池的背电级靶材主要用于生成太阳能薄膜电池的背电极，晶体硅太阳能电池较少用到溅射靶材。太阳能电池主要包括晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池，晶体硅太阳能电池转化效率较高、性能稳定，且各个产业环节比较成熟，占据了太阳能电池市场的主导地位。而晶体硅太阳能电池按照生产工艺不同可分为硅片涂覆型太阳能电池以及PVD工艺高转化率硅片太阳能电池，其中硅片涂覆型太阳能电池的生产不使用溅射靶材，目前靶材主要用于太阳能薄膜电池领域。靶材溅射镀膜形成的太阳能薄膜电池的背电级主要有三个用途：第一，它是各单体电池的负极；第二，它是各自电池串联的导电通道；第三，它可以增加太阳能电池对光的反射。太阳能薄膜电池用溅射靶材主要为方形板状，对纯度要求没有半导体芯片用靶材要求高，一般在99.99%以上。目前制备太阳能电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶(氧化铝锌)等。其中铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。图表10：太阳能电池分为晶体硅和薄膜电池资料来源：CNKI、方正证券研究所若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表11：光伏靶材主要用于形成太阳能薄膜电池的背电极资料来源：CNKI,方正证券研究所1.1.1光学器件靶材：使用光学镀膜改变光波传导特性光学器件需依靠光学镀膜形成一层或多层的介电质膜和金属膜，通过二者组成的膜系来改变光波传导的特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变，主要用到硅、铌、二氧化硅、钽等靶材。光学器件应用范围非常广泛，主要包括智能手机、车载镜头、安防监控设备、数码相机、光碟机、投影机等，高端的应用产品包括航空航天监测镜头、生物识别设备、生命科学中DNA测序等研究设备、医疗检查仪器镜头、半导体检测设备以及大视场投影镜头（如IMAX）、3D打印机等仪器设备所需的光学元器件及光学镜头。1.4全球市场空间约百亿美金，国内需求约占四分之一1.4.1全球市场规模约百亿美金，面板是最大应用领域高纯溅射靶材全球市场规模近百亿美元，其中半导体用靶材全球市场规模约在十亿美元以上，市场规模居于平板显示器、记录媒体以及太阳能电池之后，是高纯溅射靶材的主要应用领域之一。随着移动智能终端、平板电脑、消费电子、以及汽车电子产品等市场需求的推动下，高纯溅射靶材呈现高速增长的趋势，市场规模近百亿美元。据中国电子材料行业协会统计，2015年高纯溅射靶材市场全球销售总额约94.8亿美元，其中半导体、平板显示器、记录媒体、太阳能电池销售额分别为11.4亿美元、33.8亿美元、28.6亿美元、以及18.5亿美元，过去5年半导体靶材基本保持10%以上的增速。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 图表12：全球靶材市场空间约在百亿美金（2015年）2.511.4平板显示器33.8记录媒体18.5太阳能电池半导体其他28.6资料来源：中国电子材料行业协会，方正证券研究所(注：单位，亿美元)股票报告网整理http://www.nxny.com我们选取SEMI及面板行业龙头公司等相对客观的数据来源对全球半导体及平板显示行业用靶材市场空间进行验证，半导体靶材全球市场空间约为12-13亿美元，平板显示靶材市场规模约为27-36亿美元，与中国电子材料行业协会的统计数据基本保持一致。1）半导体靶材市场规模估算：溅射靶材在半导体材料中占比约为3%。半导体材料主要包括晶圆制造材料和封装材料，溅射靶材在晶圆制造材料和封装材料的占比均在3%左右，根据SEMI的统计数据，2015年半导体材料总销售额达435亿美元，其中晶圆制造材料占56%，估算得到全球半导体靶材用量约为12-13亿美元。2）靶材市场规模估算：2015年全球平板显示产值达到1480亿美元，我们根据京东方等行业龙头公司成本占比估算平板显示上游材料约占面板产值60%，平板显示材料总体市场规模约在900亿美元左右，其中靶材占比在3%-4%，因此全球面板靶材市场规模约为27-36亿美元。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表13：2013-2016全球晶圆制造及封装材料细分市场销售规模（单位：亿美元）材料细分市场2013年2014年2015年2016年制造材料硅片79.379.982.785.0光刻掩膜31.432.233.133.7光刻胶12.213.714.015.1光刻辅助试剂14.317.117.818.9化学试剂99.510.611.211.1各种气体33.234.835.636.8溅射靶材6.06.36.46.6CMP抛光液及抛光垫14.415.715.816.1其他材料/新材料25.929.530.132.1合计226.5239.8244.3247.6增长率——5.82.03.1封装材料框架33.434.834.834.6有机基板74.176.182.082.9陶瓷封装体20.120.821.621.7包封树脂24.527.127.228.9键和金属线41.533.931.631.9芯片粘接材料6.77.07.37.5其他3.74.14.14.3合计204.0203.7193.6196.1增长率——-0.1-1.01.4资料来源：SEMI、方正证券研究所1.4.1国内市场空间约150亿人民币，面板靶材占比接近1/2根据中国电子材料行业协会的统计数据，2015年国内高纯溅射靶材市场规模约为150亿元，其中面板市场规模达70亿元，占比接近50%，远超过全球范围内面板靶材市场规模占比的35%。国内面板靶材占比较高的主要原因在于中国大陆平板显示产能在全球范围占比较高，且近年仍处于不断提升趋势。而国内太阳能电池用靶材2015年市场规模仅为7.5亿元，主要因为国内太阳能电池主要以硅片涂覆型太阳能电池为主，薄膜电池的产量较小，而且以硅薄膜电池为主，因此市场规模较小。国内半导体靶材市场规模占全球比于国内晶圆制造与封装在全球范围占比总体保持一致，预计未来将呈现快速提升趋势。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表14：国内市场空间约150亿人民币，面板需求占比接近1/2市场分类2013年2014年2015年国际市场高纯溅射靶材市场75.685.794.8其中：半导体领域10.811.611.4太阳能领域11.615.218.5平板显示领域12.713.633.8国内市场高纯溅射靶材市场104.6128.7153.5其中：半导体领域9.411.311.6太阳能领域3.54.67.5平板显示领域9.412.469.3资料来源：中国电子材料行业协会，江丰电子招股说明书，方正证券研究所（单位：亿元，汇率按6.3计算）1下游半导体及面板行业产能转移及国产替代趋势确定2.1半导体晶圆制造产业转移趋势确定，本土产能放量在即本土晶圆代工产能放量在即，半导体制造产业转移趋势明确。一方面包括台积电、联电、GlobalFoundries等在内的多家海外晶圆代工企业将在大陆投放产线，另一方面国内晶圆代工厂包括中芯国际、华力微电子等在未来2年内也将有多条产线投产。根据SEMI统计，预计在2017-2020之间全球将有62座晶圆厂投产，其中26座晶圆厂来自中国大陆，其中仅2018年大陆就会有13座晶圆厂建成投产。图表15：全球晶圆代工产能向中国大陆迁移的趋势明显14121086420ChinaAmericasTaiwanSEAsiaEurope&MideastJapanKorea资料来源：SEMI、方正证券研究所（注：数据选取2017-2020全球投产晶圆厂数量）2017201820192020从政策层面看，国家在“中国制造2025”中明确制定目标至2020年集成电路自给率将达到40%、2025年达到50%。国家集成电路产业投资基金(大基金)的设立承载了国家意志，在资金与政策双重推动下，本土半导体产业将迎来快速发展。截至2017年11月30日，大基金累计有效决策62个项目，涉及46家企业，累计有效承诺若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com额1063亿元，实际出资794亿元。在此带动下，湖北、四川、陕西、深圳、安徽、江苏、福建、辽宁等地方政府纷纷提出或已成立子基金，合计总规模超过3000亿元。大基金的设立满足战略性产业对长期投资的要求，又利用基金机制有效避免了国家直接拨款或直接投资等传统支持方式带来的弊端。图表16：大基金成立以来投资了国内多家IDM及Foundry企业企业日期投资金额股份公告情况紫光集团紫光集团2017/3不详不详国家开发银行融资总量1000亿元；华芯投资拟意向投资不超过500亿元人民币，支持集成电路相关业务板块紫光展讯2015/2100亿30国家集成电路产业基金将投资100亿元，国家开发银行将提供200亿元意向额度，支持集成电路及相关业务发展长江存储2016/12不详24.09紫光控股出资197亿元，占长江控股注册资本的51.04；大基金、湖北国芯投资和湖北省科投以股东权益加货币出资，占注册资本48.96杭州士兰集成电路2016/36亿人民币48.78在第一轮增资中，大基金和士兰微分别出资2亿元，持有其51.22和48.78的股权。在第二轮增资中，大基金和集华投资分别出资4亿元，获得士兰集48.78的股份吉林华微电子2016/7无无2016年7月，国家集成电路丁文武总裁一行5人，考察了新型电力电子器件项目建设现场中芯国际中芯长电2015/9不详中芯国际、国家集成电路基金旗下子公司拟投资2.8亿美元中芯北方2016/66.36亿美元32中芯北方获得国家集成电路产业投资基金6.36亿美金增资中芯国际2015/230.9亿港币11.542015年6月，公司发行47000万股新股份，所得款项净额约为30.9亿港元。上海华力微电子2016/12不详39.192016年12月，华力12英寸先进工艺集成电路生产线建设项目在浦东正式开工。国家集成电路产业投资基金投资占比约40％北京兆易创新2017/814.5亿11启迪中海、盈富泰克分别将其1580.81万股、648.69万股转让给大基金，转让价格65.05元/股北京耐威科技2016/1120亿10.52国家集成电路基金参与金额认购耐威科技本次非公开发行的股票14亿元，通过子公司瑞通芯源将募集资金向纳微矽磊增资直接向纳微矽磊增资直接参与6亿元资料来源：相关上市公司公告、方正证券研究所海外晶圆代工企业纷纷宣布在大陆地区的扩增或新建晶圆厂计划，包括台积电、GlobalFoundries、联电、力晶科，以及TowerJazz等新厂大部分将于2017年底或2018年加入生产营运。其中联电与大陆IC业者福建晋华合作，在福建兴建12寸晶圆厂，并且会采用联电开发的32纳米(nm)制程来生产DRAM存储器。又如GlobalFoundries与大陆成都政府合作兴建12寸晶圆厂，将采用主流130纳米和180纳米技术制造IC。台积电则是投资30亿美元在南京设立晶圆代工厂，该厂将于2018年下半年开始以16若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 纳米制程，提供晶圆代工服务。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com目前大陆晶圆代工产能位居全球第2，2017年市占率将近15%，未来大陆晶圆代工产能全球占比将快速提升。当前大陆共有50余条集成电路生产线，分布于北京、上海、天津、西安、厦门、合肥等多个城市。未来在中芯国际、华力微电子、台积电、联芯、晶合、万国AOS、德科玛、紫光等持续投入12寸晶圆厂产线，加上德科玛、中芯国际、士兰微、Silex于8寸晶圆厂的产能扩充后，大陆晶圆代工产能占全球的比重将快速提升。图表17：中国大陆在建晶圆代工产线统计(不完全统计)晶圆厂总部厂址尺寸(寸)产能(千片/月)量产时间(预计)生产项目台积电台湾南京12202018.516nmFinFET力晶科技台湾合肥12102018.4150nm,110nm,90nmFlash1240逻辑晶片、90mm面板驱动IC万代美国重庆12202018功率半导体芯片MOSFET德科玛香港淮安12202017CMOS图像传感器芯片840电源管理芯片、微机电系统芯片格罗方德美国成都12202018180nm、130nmCMOS逻辑及模拟混合12201922nmFD-SOI中芯国际上海北京1235高通芯片上海1270201814nm晶圆深圳12402018图像传感器、逻辑电路和电源管理电路等天津8105高通芯片长江存储湖北武汉122002020NOR/NandFlash、DRAM华力上海上海12402018逻辑芯片紫光北京深圳12402018DRAM晋华集成福建泉州12602018嵌入式Flash、DRAM资料来源：方正证券研究所整理（注：红色表示产能未投产）2.1平板显示已实现弯道超车，大陆面板产能占比全球第一过去十年，液晶面板产能向韩国、中国台湾和大陆三地集中。尤其在产品价格不断下降，国内液晶面产业正逐步实现弯道超车。在液晶面板领域，2016年中国大陆面板厂商出货量已经占据了全球的30%，达到0.77亿片，首次超越中国台湾的25.5%市占率，居全球第2。截至2017年3月，国内除了智能手机液晶显示屏、平板电脑显示屏、笔记本电脑显示屏市占率全球第一，大屏面板产能也超过韩国成为全球最大产地。根据HIS的预测，在2020年大陆面板产能将占全球约40%的份额。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 图表18：我国平板显示行业产业规模迅速增长资料来源：IHS、方正证券研究所股票报告网整理http://www.nxny.com20162009图表19：中国大陆TFT-LCD占比超过30%图表20：京东方、华星光电市场份额持续增加中国大陆韩国中国台湾日本01020304050100909.909.5012.7080705.8013.1015.406050403020100201420152016LGD三星群创京东方友达华星光电其他资料来源：ofweek、方正证券研究所资料来源：IHS、方正证券研究所包括京东方科技(BOE)、华星光电(CSOT)、惠科(HKC)和中国电子(CEC)等国内平板显示龙头企业目前正在积极扩产，未来3年中国大陆的平板显示产能将快速扩大。我国平板显示龙头行业经过前面10多年的人才、技术专利的积累，加上国家政策层面的扶持和推动，目前正处于快速发展过程中，龙头企业目前正加大力度推进平板显示高世代线溅射。其中，京东方正在合肥兴建10.5代工厂，计划于2018年上半年投产。当前，公司正在考虑在武汉建设另一条10.5代液晶面板线。华星光电正在深圳建设一条11代线，其将于2019年开始运营。另外公司还计划于深圳建设另一条11代面板生产线，可能专注于AMOLED电视面板生产。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表21：中国大陆在建面板产线统计名称总部厂址投资（亿元）产能（万片/月）量产时间生产项目京东方第10.5代TFT-LCD生产线北京合肥40012201865英寸/75英寸超高分辨率显示屏第6代AMOLED生产线北京绵阳4654.82019手机、车载、穿戴等柔性显示产品10.5代TFT-LCD液晶面板生产线北京武汉460122020.3高世代薄膜晶体管液晶显示器件TFT—LCD生产线华星光电第11代TFT-LCD及AMOLED生产线深圳深圳465142019.3新型显示器件生产线第6代LTPS-AMOLED生产线深圳武汉3504.52020柔性显示屏、可折叠显示面板和辉光电第6代LTPSAMOLED生产线上海上海272.78620191至15英寸的中小尺寸显示屏及模组(部分柔性)国显光电第6代AMOLED生产线昆山廊坊30032018中小尺寸柔性AMOLED显示器中电熊猫第8.6代TFT-LCD线南京咸阳280122018.2阵列(Array)、彩色滤光片(CF)、成盒(Cell)、模组(LCM)生产线第8.7代TFT-LCD线南京成都280122018.7阵列(Array)、彩色滤光片(CF)、成盒(Cell)、模组(LCM)生产线鸿海10.5代TFT-LCD液晶面板生产线台湾广州61092019IGZO技术面板第6代LTPS生产线台湾郑州280——2018第6代低温多晶硅(LTPS)薄膜晶体管液晶显示器件LGD第8.5代OLED生产线韩国广州450122019.68.5代OLED面板生产线资料来源：ofweek、方正证券研究所2政策驱动叠加技术突破，本土靶材制造有望迅速崛起2.1日美跨国集团主导全球靶材制造以及上游高纯金属产业2.1.1日美跨国集团主导全球靶材制造产业全球靶材制造行业呈现寡头垄断格局，少数日美化工与制造集团主导了全球靶材制造行业，产业集中度高。靶材行业下游的区域集聚性造就了高纯溅射靶材生产企业的高度聚集，目前全球溅射靶材研制和生产主要集中在美国、日本少数几家公司，其中霍尼韦尔、日矿金属、东曹、普莱克斯、住友化学、爱发科等跨国集团占据主导地位。根据有研新材公告数据估算，日矿金属是全球最大的靶材供应商，靶材销售额约占全球市场的30%；霍尼韦尔在并购JohnsonMattey、整合高纯铝、钛等原材料生产厂后，占到全球市约若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 20%的份额，此外东曹和普莱克斯分别占比20%和10%。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 图表22：全球靶材市场被几大制造商占据其他,20日矿金属,30普莱克斯,10东曹,20霍尼韦尔,20资料来源：有研新材公司公告，方正证券研究所股票报告网整理http://www.nxny.com较高的技术与客户壁垒导致日美跨国公司形成垄断优势，行业集中度高，且产业格局长期维持在相对稳定的状态。一方面溅射镀膜工艺起源于国外，对所需溅射靶材的性能要求高、专业性强，属于技术密集型产业，新进入者无论在技术、设备、人才等各方面均需要大规模投入；另一方面，靶材行业下游客户认证周期长，客户定制化程度高。在供应商与下游用户初步接触后，需要经过供应商初评、报价、样品检测、小批样使用、以及稳定性检测等评价过程，才能成为正式供应商，一般需要2-3年，且一旦成为供应商后将与下游客户保持相对稳定的关系。图表23：技术壁垒、客户认证壁垒、资金壁垒和人才壁垒形成行业垄断格局人才壁垒：技术壁垒：制作工艺难；精度要求高；技术保密强；高层次技术新产品开发周期长人才+专业的技术支持服务霍尼韦尔日矿金属高端靶材寡头垄断东曹普莱克斯......资金壁垒：投入大、周期长的系统工程客户认证壁垒：严格的供应商认证机制+客户的质量标准和性能要求（全过程一般2-3年）=合格供应商资料来源：方正证券研究所整理主导全球靶材产业的日美行业龙头公司霍尼韦尔、日矿金属、东曹、普莱克斯等均是综合型化工、材料以及制造集团，其中靶材业务是集团旗下非常细分的业务线之一，并未有单一业务的靶材制造商。以霍尼韦尔为例，13-15年靶材所属的新材料业务部门销售收入分别为38、39、35亿美元，且仅占总营业收入的10%左右（其中靶材业务占比未披露）；同样日矿金属靶材所属的金属业务收入若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 14-16年销售收入分别为1.04、1.16、1.05亿日元，同样仅占公司业若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com务10%左右。图表24：日美综合型材料和制造集团主导全球靶材产业公司名称国家公司基本情况霍尼韦尔美国霍尼韦尔国际公司(HoneywellInternationalInc.)成立于1885年，总部位于美国，纽交所上市公司，2014年财富世界五百强排名第283位，拥有航空航天集团、自动化控制系统集团以及特殊材料和技术集团三大业务部门。霍尼韦尔的主要靶材包括钛铝靶、钛靶、铝靶、钽靶、铜靶等。2013年度、2014年度、2015年度霍尼韦尔销售额分别为390.55、403.06、385.81亿美元，其中靶材所属的新材料销售额分别为38.02、39.04、35.10亿美元。日矿金属日本JX日矿日石金属株式会社(JXNipponMining&MetalsCorporation)成立于1992年，为JX控股(JXHoldings)子公司。JX控股总部位于日本，为东京交易所上市公司，主要有能源业务、石油天然气探测和生产业务、金属业务三大业务，其中金属业务为日矿金属运营。日矿金属以铜为中心，致力开展从上游的资源开发、中游的金属冶炼至下游的电子材料加工、环保资源再生业务，其中溅射靶材主要用于大规模集成电路、平板显示、相变光盘等。2014-2016财年，JX控股销售额12.41、10.88、8.74万亿日元，其中金属业务销售额分别为1.04、1.16、1.05万亿日元。东曹日本东曹株式会社（TosohCorporation）成立于1935年，总部位于日本，为东京交易所上市公司，其功能产品部门由有机化学产品、高机能材料产品、生命科学三部分组成。其溅射靶材通过在美国、日本、韩国和中国的生产基地生产，主要用于半导体、太阳能发电、平板显示器、磁记录媒体等领域。2014-2016财年销售额分别为7722.72、8096.84、7537.36亿日元。普莱克斯美国普莱克斯公司（Praxair,Inc.）成立于1907年，总部位于美国，为纽交所上市公司，是世界最大的气体供应商之一，主要产品包括大气气体产品、生产气体产品以及表面技术产品。其溅射靶材主要应用于电子及半导体行业。2013-2015年度公司营收为119.25、122.73、107.76亿美元。住友化学日本住友化学株式会社(SumitomoChemicalCompany,Limited)成立于1913年，总部位于日本，东京交易所上市公司，主要服务于石油化学、能源-功能材料、情报电子化学、健康-农业相关事业和医药五大领域，其中情报电子化学领域的主要产品包括滤色镜、光学功能薄膜、彩色光阻剂、导光板、触摸屏面板、溅射靶材等。2014-2016财年公司销售额分别为2.24、2.38、2.10万亿日元。住友化学在中国大陆设有19家子公司，其中溅射靶材业务由住化电子材料科技（上海）有限公司经营。爱发科日本日本爱发科真空技术株式会社(ULVAC,Inc.)成立于1952年，总部位于日本，东京交易所上市公司，主要产品分为真空设备、真空组件和原材料三大类，其溅射靶材主要应用于平板显示、半导体、太阳能电池等领域，此外爱发科还可以生产ITO靶材。2014-2016财年爱发科销售额分别为1738.78、1791.74、1924.37亿日元。爱发科真空技术株式会社在中国设有7家子公司，其中溅射靶材相关业务由爱发科真空技术（苏州）有限公司经营。三井矿业日本三井矿业冶炼有限公司（MITSUIMINING&SMELTINGCO.,LTD.）成立于1950年，主营业务包括工程材料、电子材料制造和销售、非铁金属加工、资源开发、贵金属回收、原材料相关事业、以及汽车配件制造和销售等，2014-2016财年营收4,410、4,732、4,506亿日元。资料来源：公司招股说明书、方正证券研究所2.1.1全球靶材制造龙头把控上游高纯金属生产制造环节目前全球市场有色金属总体供应较为充裕，但是溅射镀膜材料中的部分产品对金属材料纯度的要求较高，高纯金属成为了靶材制造的核心原材料。目前，全球范围内高纯金属产业集中度较高，美国、日本、德国等国家的高纯金属生产商依托先进的提纯技术在整个产业链中居于有利的地位，具有较强的议价能力，同时，包括霍尼韦尔、日矿金属等全球靶材制造龙头也积极向上游延伸，把控上若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com游高纯金属生产制造环节。例如，超高纯钛属国家战略性新材料，长期以来只有美国霍尼韦尔、日本东邦和大阪钛业3家公司能生产，并对我国严格限制出口。图表25：溅射靶材已发展成为较为成熟的产业链霍尼韦尔、日上原材料金非合化本东邦、大阪游加工属金金合钛业、三菱化属物学、普兰西等日矿金属中靶材霍尼韦尔游制造东曹普莱克斯等IBM溅射飞利浦镀膜东芝三星下台积电等游主要分布在日、台终端和中国大陆等劳动应用密集型地区，且向半导体平板显太阳能信息光学人力成本低的地区芯片示器电池储存应用转移资料来源：江丰电子招股说明书，方正证券研究所3.2政策加码，本土靶材产业有望迅速崛起3.2.102专项和863计划推动国产靶材实现从0到1的跨越目前国内高纯溅射靶材产业总体表现出数量偏少，企业规模偏小和技术水平偏低的特征。国内半导体工业的相对落后导致了高纯溅射靶材产业起步较晚。受到技术、资金和人才的限制，多数国内厂商还处于企业规模较小、技术水平偏低、以及产业布局分散的状态。目前国内靶材厂商主要集中在低端产品领域进行竞争，在半导体、液晶显示器和太阳能电池等市场还无法与国际巨头全面抗衡，但是依靠产业政策导向、产品价格优势已经在国内市场占有一定的市场份额，并逐步在个别产品或细分领域挤占国际厂商的市场空间。近年来国家制定了一系列产业政策包括863计划、02专项等来加速溅射靶材供应的本土化进程，推动国产靶材在多个应用领域实现从0到1的跨越。国家高技术研究发展计划(“863计划”)若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 、国家科技重大专项“极大规模集成电路制造设备及成套工艺”专项基金若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com(“02专项”)、发改委的战略转型产业化项目都将溅射靶材的研发及产业化列为重点项目。国家产业政策、研发专项基金的陆续发布和落实，表面从国家战略高度扶植溅射靶材产业发展壮大。图表26：近年国家对靶材的政策扶持力度不断加大政策名称政策导向《产业结构调整指导目录（2011年本）》（2011年3月）将直径200mm以上的硅单晶及抛光片、直径125mm以上直拉或直径50mm以上水平生长化合物半导体材料、铝铜硅钨钼等大规格高纯靶材、超大规模集成电路铜镍硅和铜铬锆引线框架材料、电子焊料等信息、新能源有色金属新材料生产列为鼓励类项目。《当前优先发展的高技术产业化重点领域指南》（2011年度）（2011年6月）将“高速集成电路技术及芯片”、“线宽65纳米以下的纳米级集成电路芯片制造、封装和测试”、“半导体纳米结构材料与器件”、“TFT-LCD用靶材”等列为当前优先发展的高技术产业化重点领域。《工业转型升级规划（2011-2015年）》（2011年12月）重点发展高性能磁体、新型显示和半导体照明用稀土发光材料和高端硬质合金，加快推进新型储氢材料、催化材料、高纯金属及靶材等产业化；《有色金属工业“十二五”发展规划》（2012年1月）高纯铜合金溅射靶材、ITO靶材、大规格钨钼靶材被列为精深加工产品发展重点；核级锆合金材料、高性能钨钼合金材料、大尺寸高纯稀有金属靶材等项目被列为精深加工重点工程。《新材料产业“十二五”重点产品目录》2012年2月）高性能靶材（包括超高纯铝、钛、铜溅射靶材，超大尺寸高纯铝、铜、铬、钼溅射靶材，高纯钼及其靶材等）被列为新材料产业“十二五”重点产品。《“十二五”国家战略性新兴产业发展规划》（2012年7月）积极发展高纯稀有金属及靶材、原子能级锆材、高端钨钼材料及制品等，加快推进高纯硅材料、新型半导体材料、磁敏材料、高性能膜材料等产业化。《2014-2016年新型显示产业创新发展行动计划》（2014年10月）产业链提升行动：推动高纯度钼（Mo）、铝（Al）、钛（Ti）、铜（Cu）等金属靶、氧化铟锡（ITO）靶材、氧化铟镓锌（IGZO）靶材的研发和产业化。《稀土行业发展规划（2016-2020年）》（2016年9月）开发超高纯稀土金属及其靶材等深加工产品的制备技术和批量化生产装备，研制超高纯及特殊物性稀土化合物材料及规模制备技术和装备，满足高端电子器件和芯片、功能晶体、集成电路、红外探测、燃料电池、特种合金、陶瓷电容器等应用需求。《新材料产业发展指南》（2016年12月）加强大尺寸硅材料、大尺寸碳化硅单晶、高纯金属及合金溅射靶材生产技术研发，加快高纯特种电子气体研发及产业化，解决极大规模集成电路材料制约。资料来源：公司招股说明书、方正证券研究所3.2.1大基金推动国产半导体材料龙头从1到10实现弯道超车目前大基金对半导体上游材料投资占比不到4%，且投资标的数量相对有限，预计大基金二期将加大对半导体上游设备和材料的投入力度，推动国产半导体材料龙头从1到10实现弯道超车。从大基金一起的投资情况来看，目前大基金在制造、设计、封测、装备材料等产业链各环节已经实现了投资布局全覆盖，各环节承诺投资占总投资的比重分别为63%、20%、10%、7%。装备材料仅占大基金投资比重的7%，其中半导体材料约占比3%-4%。从目前大基金的投资标数量不到10家，主要集中在半导体材料细分行业的龙头公司包括上海新阳、安集微电子等，同时正在推动包括雅克科技、巨化科技等企业的产业资源整合，将其打造成国内电子气体和湿电子化学若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com品的行业龙头。图表27：制造环节占大基金投资比重的63%710制造设计20封测63装备材料资料来源：赛迪顾问，方正证券研究所图表28：近年国家对靶材的政策扶持力度不断加大公司名称具体领域投资时间备注上海硅产业投资有限公司300mm大硅片2015年11月由大基金、上海国盛（集团）有限公司、上海武岳峰集成电路股权投资合伙企业、上海新微电子有限公司、上海市嘉定工业区开发（集团）有限公司共出资20亿元雅克科技电子材料2017年10月国家集成电路产业基金（大基金）共投资5.5个亿，交易完成后将成为雅克科技第三大股东巨化股份电子材料2017年12月该公司联合国家集成电路产业投资基金、深圳远致富海、衢州盈川基金、厦门盛芯、上海聚源聚芯共同出资设立中巨芯科技大基金出资3.9亿，持股39上海新阳大硅片2016年5月子公司上海新昇获由大基金等合资成立的上海硅产业有限公司增资3.085亿元，上海硅产业有限公司持有上海新昇42.31的股权江苏中能集团电子级多晶硅材料2016年及之前——安集微电子抛光液2016年及之前——烟台德邦科技有限公司特种功能性高分子界面材料2016年及之前——北京世纪金光半导体有限公司宽禁带半导体晶体材料2016年及之前——资料来源：SEMI、公司官网，方正证券研究所若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com3.2国产靶材技术水平跻身国际一流，实现本土产线中大批量供货3.2.1国产靶材已实现对全球主流客户本土产线中大批量供货目前国内靶材行业已经初具规模，随着国内靶材企业的不断技术创新，在半导体、面板以及光学器件等领域出现了具备和日美跨国集团竞争的本土靶材企业。国内靶材行业龙头包括A股上市公司江丰电子、有研新材子公司有研亿金、福建阿石创、以及隆华节能旗下子公司四丰电子和晶联光电，目前已经初具规模。非上市公司中有江西睿宁、江苏比昂等公司，但总体规模偏小。图表29：A股涉及靶材相关业务的公司有江丰电子、有研新材、阿石创、以及隆华节能等公司名称公司基本情况靶材相关业务情况江丰电子江丰电子创建于2005年，专门从事高纯金属溅射靶材的研发生产，创业团队核心人员由海外高层次归国留学人员构成。公司拥有完整的自主知识产权体系，截至2017年12月31日，拥有授权专利207项，基本在半导体靶材领域，其中发明专利163项。公司先后承担了国家02重大专项、国家863重大专项等重要科研项目，打破了日美企业在高纯金属溅射靶材的垄断，目前是国内半导体靶材的行业龙头。公司2017年靶材业务规模为3.8亿，公司高纯金属靶材按应用领域分为半导体芯片用靶材、太阳能电池用靶材以及平板显示器用靶材三类。公司钽、铝、钛三种靶材的销售占比较为平均，在2017年的占比分别为26.45、25.81、17.60，其中LCD用碳纤维支撑是公司其它类业务中销售占比最多的产品。从应用领域来看，半导体芯片领域是公司最主要的市场。有研新材有研新材前身有研硅股主要从事直拉重掺硅单晶和熔硅单晶的研发和生产以及相应的硅片加工业务。2013年起公司启动相关重组事宜，推动公司从原来单一的半导体硅材料业务转型成为稀土、高纯金属靶材、光电材料等新材料领域的控股公司。2017年，公司稀土材料、高纯/超高纯金属材料、光电材料、医疗器械材料、红外光学、光纤材料的营收占比分别为33.53、31.25、2.61、1.71、1.66。公司旗下子公司有研亿金高纯金属靶材的研发和产业化能力均处于国内领先地位，产品主要应用于半导体芯片、LED、光伏等行业。目前，有研亿金在国内已经开发了30多种金属靶材，逐步占领集成电路国内4-6英寸市场，正在进入8英寸以上市场，并形成一定的规模化生产。其中公司靶材所属的高纯/超高纯金属材料业务17年营收为12.75亿元。阿石创阿石创成立于2002年，是一家综合型PVD镀膜材料生产商。公司业务集高档薄膜材料生产、研发、销售于一体，有溅射靶材、蒸镀材料与镀膜配件三大产品线。产品主要应用于光学、光通信、平板显示、触控面板、集成电路、LED芯片等领域。客户包括京东方、群创光电、蓝思科技、伯恩光学等。2017年公司溅射靶材、蒸镀材料、其他产品的营收占比分别为78.36、18.40、3.24。公司已掌握高端PVD镀膜材料生产的关键技术，是国内少数具备旋转管靶材绑定技术的厂商。公司拟投资2.66亿元，建设年产350吨平板显示溅射靶材建设项目，进一步扩大在平板显示镀膜材料领域的市场份额。公司2017年靶材相关业务收入为1.84亿。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 隆华节能隆华节能成立于1995年，是专业从事制冷设备研发、制造、销售的高科技企业，其核心产品复合制冷设备市场占有率高达80，为业内龙头。2017年公司传热节能产品、环保水处理产品及服务传热节能产品、新材料产品类业务的营收占比分别为46.05、35.11、18.85。2014年公司通过收购四丰电子，切入靶材领域。四丰电子深耕高纯钼溅射靶材，其产品质量国际领先，直接供货三星、LG、京东方、国星光电等国内外显示龙头。同时，公司开始全系列靶材布局，逐步向铜靶材、铝靶材、ITO靶材等领域渗透。2016年公司收购广西晶联，广西晶联为氧化铟锡（ITO）靶材龙头企业，年产能60吨。其中公司靶材所属的新材料业务收入2017年收入规模为20132.87万元。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com资料来源：公司招股说明书、方正证券研究所目前我国靶材龙头企业江丰电子、隆华节能、有研新材、阿石创已经分别进入国内外主流半导体、平板显示、光伏、光学器件企业供应链体系，且已经在部分企业本土产线实现中大批量供货。1）在半导体靶材领域，江丰电子目前已经基本进入全球主流晶圆代工企业的供应体系，全球知名晶圆代工企业台积电、联电是公司前五大客户，此外罗格方德、意法半导体也均是公司客户，同时公司也是本土晶圆代工龙头企业中芯国际、华宏等的优质供应商。此外有研亿金也实现为本土芯片封测厂长电科技等的批量供货。2）在面板靶材领域，隆华节能子公司四丰电子实现高纯钼靶材向三星、LG、京东方、国星光电等国内外显示龙头的直接供货。此外江丰生产的用于G8.5代、G6代液晶面板的超高纯铝溅射靶材也已开始给国内液晶面板的龙头企业供货；3）在光学器件领域，阿石创也已经实现为群创光电、蓝思科技、伯恩光学等国内光学器件龙头的批量供货。4）在太阳能电池靶材领域，江丰电子已经为全球知名太阳能公司SunPower供货，同时SunPower也是江丰电子第四大客户。图表30：我国主要靶材企业覆盖应用领域及下游客户情况公司下游客户主要应用领域阿石创国内企业：京东方、群创光电、蓝思科技、伯恩光学、水晶光电等覆盖半导体、面板显示、太阳能、光学器件等领域，主要应用于平面显示（手机）、航空航天与通信网络等领域的光学器件行业国外企业：爱普生等江丰电子国内企业：台积电、联华电子、中芯国际、华虹宏力、京东方、华星光电等覆盖半导体、面板显示、太阳能等领域，主要应用于半导体制造领域，包括铝、钛、钽靶材国内企业：格罗方德、索尼、东芝、瑞萨、美光、海力士、意法半导体、英飞凌、SunPower隆华节能国内企业：京东方、华星光电、信利半导体、ADV等覆盖半导体、面板显示、太阳能等领域，主要应用于高端显示面板行业，主要为钼及ITO靶材国外企业：三星、LG、TOSOH、爱发科、飞利浦等有研新材国内企业：台积电、台联电、ASE、Xintec、苏州晶方、长电科技、昆山西泰、天水华天等覆盖半导体、面板显示、太阳能等领域，先进封装材料领域综合实力全球第三，主要应用于半导体封装领域国外企业：Amkor等资料来源：公司公告，方正证券研究所若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表31：江丰电子前五大客户包括台积电、中芯国际、联电三大主流晶圆代工厂期间序号客户名称销售金额（万元）占营业收入的比例2016年度1三菱化学8594.1419.412台积电8440.4719.063中芯国际5921.5513.374SunPower3736.708.445联华电子2342.045.29合计28151.0365.572015年度1中芯国际5695.5719.582台积电4378.6015.053三菱化学3278.8011.274SunPower2090.817.195联华电子2056.987.07合计17500.7760.162014年度1中芯国际4219.1317.212三菱化学4006.0916.343SunPower2072.318.464台积电2032.888.295依摩泰1931.627.88合计14262.0258.19资料来源：江丰电子招股说明书、方正证券研究所3.2.1突破专利封锁，目前已具备和国际巨头同等竞争水平经过多年的技术积累和研发投入，我国溅射靶材龙头企业目前已经逐渐突破国外的技术封锁，拥有了自主专利的靶材产品，目前在半导体、面板等多个领域已经初步具备和国际靶材巨头同等的竞争水平。其中，江丰电子拥有授权专利207项，基本在半导体靶材领域，其中发明专利163项，实用新型44项；有研新材拥有发明专利600余项；阿石创获得30项授权专利；隆华节能拥有19项专利，其中发明专利8项，实用新型专利15项。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表32：靶材企业商标与专利情况公司国家专项专利阿石创主持研究国家中小企业创新基金项目“磁控溅射靶材”获得30项授权专利江丰电子承担或主持国家高技术研究发展计划（“863计划”）重点项目1项、引导项目1项，国家科技重大专项（“02专项”）课题4项。拥有授权专利207项，基本在半导体靶材领域，其中发明专利163项，实用新型44项隆华节能-拥有19项专利，其中发明专利8项，实用新型专利15项有研新材“十一五”、“十二五”期间，承担国家02专项、国家国际重点合作项目、国家高技术产业化项目以及国家科技支撑项目，863项目等36项国家重点项目。2017年有研亿金、有研稀土牵头或参与“十三五”国家重点研发计划专项课题立项11项，顺利通过项目答辩拥有发明专利600余项资料来源：公司公告、方正证券研究所江丰电子的半导体靶材产品已应用于世界著名半导体厂商的最先端制造工艺，在14/16纳米技术节点实现批量供货，同时还满足了国内厂商28纳米技术节点的量产需求，产品成功打入全球280多个半导体芯片制造工厂，成为众多世界著名芯片公司的供应商。公司成功完成国家02重大专项(300mm硅片工艺用Al、Ti、Ta靶材制造技术研发与产业化)项目验收，承担的国家重大专项(300mm硅片45-28纳米配线用超高纯系列溅射靶材)项目得到重大进展，Ta靶材、Cu靶材成功通过台积电等世界一流半导体企业评价，江丰系列产品在以台积电为代表的世界一流半导体企业的最先端工艺得到批量应用，所生产的产品直接用于iphone6、奥迪、丰田等高端终端产品。iPhone7核心处理器A10芯片也采用了江丰电子的产品，是中国电子产品第一次应用在16nmFinFET+技术大规模集群。同时，目前主要由江丰电子供应靶材也已经成为中芯国际第二大验证通过国产材料类别。图表33：靶材已成为中芯国际第二大验证通过材料类别资料来源：赛迪顾问，方正证券研究所若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com在封装用靶材方面，有研亿金全面打破国外企业对我国先进封装材料领域内的技术封锁和垄断，成为国内该领域的龙头企业。公司初步建设成国内最大的集成电路用溅射靶材研究开发和生产基地，开发出的8-12寸线正面布线和先进封装用高纯铜、铝合金靶材，多款样品在国内外主流用户机台上正在或完成验证，部分产品已批量供货。在面板靶材方面，隆华节能子公司四丰电子成功获得国内首条10.5代面板产线的首批高纯钼靶订单（京东方B9线），子公司晶联科技目前已通过信利半导体TFT2.5代线和京东方6代线的测试认证，成为国内首家在TFT领域获客户认可并实现进口替代的ITO靶材供应商。此外，江丰电子所生产的G6代和G8.5代超高纯铝靶材分别成功通过京东方(合肥厂)及华星光电(深圳厂)的评价，在客户端生产线实现应用。3.4国内靶材龙头正加大横向拓展与产业延伸力度3.4.1加大产业上游高纯金属生产延伸力度上游金属提纯行业快速发展，高纯铝产能不断提升，同时我国目前也成为世界第三个具备低氧超高纯钛生产能力的国家。我国拥有丰富的有色金属矿产资源，但由于高纯金属制备技术落后，大部分高纯金属依赖进。近年来，国内在高纯金属行业快速发展，以高纯铝企业为代表的如宁波创润新材料、新疆众和、包头铝业、山西关铝等。2016年，我国高纯铝产量达11.8万吨，甚至部分返销国外。现阶段，我国已成为继美日之后第三个具备低氧超高纯钛生产能力的国家。同时，部分靶材企业包括江丰电子通过自主研发和合作研发，现已经具备生产高纯度的溅射靶材用金属材料（铜纯度≥99.9999%；铝、钛纯度≥99.999%；钽纯度≥99.99%）的技术能力。同时有研亿金也具备高纯金属生产能力。江丰电子：公司计划垂直整合产业链，大力发展高纯金属材料的提纯与制备，增加产品盈利能力。由于公司铝靶原材料“电子级超高纯铝”目前主要依赖于进口（我国每年有数千吨缺口），限制了公司铝靶的产能及盈利能力。公司计划建设的年产300吨电子级超高纯铝生产项目投入31.49%的资金，目前已具备一定的生产能力，所生产的超高纯铝材料已可应用于公司的部分产品，并已通过客户的认证。该项目达产后，预计铝靶可产至3万枚以上，较2016年新增50%产能（2016年公司合计采购高纯铝219吨）。同时公司已经建设完成了23000平方米的高纯钛生产基地，自主设计并制造了低氧超高纯钛熔炼电解设备，完成了多枪冷床电子束熔铸设备的安装，开发了拥有自主知识产权的低氧超高纯钛提炼、熔铸及分析检测等核心技术。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表34：江丰电子计划建设的年产300吨电子级超高纯铝生产项目已投入31.49%的资金项目名称项目总投资（万元）募集资金投资额（万元）已投入金额（万元）已投入占募投资金比例年产400吨平板显示器用钼溅射靶材坯料产业化项目10,8766,6873,940.9658.94年产300吨电子级超高纯铝生产项目4,0214,2011,266.131.49分析检测及客户支持服务中心建设项目5,5045,504317.465.77补充流动资金及偿还银行贷款5,0005,0005,000合计25,40121,21210,524.52资料来源：公司公告、方正证券研究所3.4.1横线拓展应用领域，面板靶材成为聚焦点国内靶材龙头企业纷纷加大对靶材其他细分领域横向拓展的力度，其中平板显示用靶材作为市场规模最大的应用领域，成为行业龙头公司的聚焦点。一方面国内面板靶材龙头企业四丰电子与晶联科技均不断加大面板靶材产能，2017年2月，晶联光电已经在洛阳开始扩产，未来三年形成200-300吨ITO靶材生产能力。另一方面江丰电子和阿石创均推出平板显示靶材募投项目，其中江丰电子计划投资1.1亿元建设年产400吨平板显示器用钼溅射靶材坯料产业化项目，项目达成预计将新增2.36亿年收入及接近5000万年利润，同时阿石创也计划总投资2.7亿元建设年产350吨平板显示溅射靶材的生产基地，实现高品质的大尺寸ITO靶材国产化，项目达产后预计年均实现利润总额近8000万元。4投资逻辑4.1投资主线我们看好本土靶材产业一方面将深度受益下游半导体及面板产业产能转移趋势，另一方面国内靶材企业在政策驱动及技术突破趋势下，未来将迅速实现国产替代。我们重点推荐国内半导体靶材龙头江丰电子（（300666.SZ），公司目前正积极推进产业版图的横线与纵向延伸，向平板显示靶材以及上游高纯金属生产领域拓展。预计公司18-19年实现收入7.7/10.6亿元，净利润0.90/1.30亿元(对应PES分别为0.41/0.59)，同比增长41%/45%，其他标的包括：1）阿石创（300706.SZ）：国内光学器件靶材龙头，目前正大力向面板领域拓展的阿石创（300706.SZ）；2）有研新材（600206.SH）国内芯片封装靶材提供商，在新材料业务领域拥有广泛布局；3）隆华节能（300263.SZ）国内面板靶材龙头，深耕环保节能业务。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表35：重点公司估值表证券代码公司名称股价EPSPE18E19E20E18E19E20E300706.SZ阿石创42.361.101.76——3824——600206.SH有研新材8.430.120.15——7056——300263.SZ隆华节能5.120.090.15——5734——300666.SZ江丰电子50.860.410.590.911248656资料来源：Wind、公司招股说明书、方正证券研究所(注：公司股价为2018年6月22日)4.1重点公司4.1.1江丰电子（300666.SZ）——国内溅射靶材龙头，打造世界级靶材企业江丰电子主营高纯溅射靶材的研发、生产和销售。公司生产的金属溅射靶材主要有四种：钽、铝、钛、钨钛靶。目前，公司的产品在半导体、平面显示以及太阳能等领域都已经有所应用，同时在超大规模集成电路用高纯金属靶材领域，公司已经成功打破了美国、日本等跨国公司的垄断格局，实现国内电子材料行业飞跃式地发展。2017年公司钽靶、铝靶、钛靶以及LCD用碳纤维支撑四类产品的营收占比分别为26.45、25.81、17.60以及12.36。图表36：江丰电子主要产品产品2017年营收占比主要用途钽靶26.45钽作为阻挡层通常用于90-14纳米技术节点的先端芯片中，目前，公司生产的钽靶主要拥于超大规模集成电路领域。铝靶25.81广泛应用于半导体芯片、太阳能电池、平面显示灯领域。其中，超大规模集成电路芯片通常要求溅射靶材金属纯度达到99.9995以上（5N5），平板显示器、太阳能电池用铝靶的金属纯度略低，分别要求达到99.999（5N）、99.995（4N5）以上。钛靶17.60钛常在超大规模集成电路芯片中作为阻挡层薄膜材料之一。公司生产的钛环、钛靶主要用于超大规模集成电路芯片制造领域。LCD用碳纤维支撑12.36主要用于平板显示器生产线相关设备及配件。不同于溅射靶材等消耗性原材料，碳纤维复合材料部件可重复使用，一般在平板显示器生产线建设和扩产过程中会产生大量需求，产线建成以后需求下降。资料来源：公司公告，方正证券研究所公司主营业务收入持续增长，业绩表现亮眼。公司2017年实现营收5.50亿元，对应归母净利润0.64亿元，15年至17年归母净利润复合增长率高达63.30%。公司毛利率水平一直维持在32%左右，保持了较好的盈利能力。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表37：江丰电子财务指标项目单位201520162017营业收入亿元2.914.435.50YOY18.6952.2124.21净利润亿元0.230.540.64YOY24.94130.4116.55毛利率31.7431.8431.65净利率7.9912.3111．56资产负债率55.8655.2535.51ROE10.1618.9611.33资料来源：公司公告，方正证券研究所公司技术水平接近国际领先水平。公司拥有完整的自主知识产权体系，截至2017年12月31日，公司拥有授权专利207项，其中发明专利163项，实用新型44项，先后承担或主持了“863计划重点项目”1项、“863计划引导项目”1项，“02专项”4项等多项国家级研究课题，其中在高纯金属纯度控制及提纯技术、晶粒晶向控制技术、异种金属大面积焊接技术、金属精密加工及特殊处理技术、靶材清洗及包装技术方面皆实现了重大突破，技术达到国际领先水平。下游客户资源优质且稳定，覆盖全球主流客户。目前公司已经成为中芯国际、台积电、格罗方德、意法半导体、东芝、海力士、京东方、SunPower等国内外知名厂商的高纯溅射靶材供应商，并与其建立了较为稳定的供货关系，有助于公司充分分享高纯溅射靶材下游应用领域的广阔市场。4.1.1阿石创（300706.SZ）——国内领先的光学器件溅射靶材与蒸镀材料供应商阿石创是一家综合型PVD镀膜材料生产商。公司业务集高档薄膜材料生产、研发、销售于一体，主导产品为溅射靶材和蒸镀材料两个系列。产品主要应用于光学、光通信、平板显示、触控面板、集成电路、LED芯片等领域。现阶段，公司已掌握高端PVD镀膜材料生产的关键技术，是国内少数具备旋转管靶材绑定技术的厂商。2017年公司溅射靶材、蒸镀材料、其他产品的营收占比分别为78.36%、18.40%、3.24%。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com图表38：阿石创主要产品产品2017年营收占比主要用途PVD镀膜材料96.76主要应用于光学光电子产业，用以制备各种薄膜材料。其中：溅射靶材78.36报告期内，公司溅射靶材应用于平板显示、光学元器件、节能玻璃等行业，同时，公司亦加大研发力度，积极拓展半导体、太阳能电池等行业。蒸镀材料18.40公司研发的蒸镀材料应用领域包括光学元器件、LED、平板显示和半导体分立器等。其他产品3.24除溅射靶材、蒸镀材料等产品外，公司还生产镀膜配件、光学元器件配件等其他产品。资料来源：公司公告，方正证券研究所公司营业收入逐年增长，盈利能力稳健提升。公司营业收入一直保持每年33%以上的稳健增长，2017年公司营业收入达2.36亿元，同比增长34.85%。公司归属于母公司股东净利润经过2014年和2015年的高速增长之后，增长逐渐趋于稳健，2016年、2017年分别实现净利润0.36、0.41亿元，同比增长36.77%、13.59%。图表39：阿石创财务指标项目单位201520162017营业收入亿元1.241.752.36YOY50.5940.3334.86净利润亿元0.260.360.41YOY65.4736.7713.62毛利率39.0237.7934.71净利率21.1720.6317.38资产负债率18.5826.4625.59ROE15.8017.7710.04资料来源：公司公告，方正证券研究所公司注重前瞻性技术的开发与储备，掌握了PVD镀膜材料研发的多项核心技术。目前公司已获得30项授权专利，掌握丰富的PVD镀膜材料制备工艺技术、多样化靶材绑定技术、背板精密加工技术，并能够提供较为全面的产品体系。其核心技术也是公司实现成本优势的基础。同时公司与京东方、群创光电、蓝思科技、伯恩光学、爱普生、水晶光电等多家知名企业建立了良好的合作关系。4.1.1隆华节能（300263.SZ）——新材料业务产业多元化发展，面板靶材有望迎来突破隆华节能是专业从事制冷设备研发、制造、销售的高科技企业，其核心产品复合制冷设备市场占有率高达80%，为业内龙头。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 2014、2016年，公司先后通过收购四丰电子以及广西晶联公司，开始全系列靶材布局，逐步向铜靶材、铝靶材、ITO靶材等领域渗透。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com现阶段，四丰电子、广西晶联分别在钼靶材、ITO靶材领域处于领先地位。2017年9月公司收购国内领先的船用复合材料制造商湖北咸宁威海复合材料制品有限公司，在军工新材料领域进行战略布局。图表40：隆华节能主要产品产品2017年营收占比主要用途传热节能产品46.05公司溅射靶材应用于平板展示、光学元器件、节能玻璃等行业，同时加大研发力度，积极拓展半导体、太阳能电池等行业。环保水处理产品35.11主要应用于光学光电子产业，用以制备各种薄膜材料。新材料产品18.85公司研发的蒸镀材料应用领域包括光学元器件、LED、平板显示和半导体分立器等。资料来源：公司公告，方正证券研究所公司布局新材料板块已初显成效。公司子公司四丰电子钼靶材和广西晶联光电的ITO靶材出货量持续提升，带动靶材业务较快速度增长。2017年，新材料板块实现营业收入20,132.87万元，同比增长141.79%，实现净利润8,508.98万元，同比增长131.61%。图表41：隆华节能财务指标项目单位201520162017营业收入亿元13.718.1210.68YOY%10.10-40.7531.54净利润亿元1.790.150.46YOY%22.60-91.46201.75毛利率%25.1824.8527.37净利率%13.152.005.26资产负债率%32.6825.7129.12ROE%7.400.631.88资料来源：公司公告，方正证券研究所四丰电子是国内唯一一家高端钼靶材供应商，在钼靶材行业处于领先地位，并在研发工作上取得了多项成果。截至目前公司拥有发明专利5项，实用新型专利14项。在应用方面四丰电子成功获得国内首条10.5代面板产线的首批高纯钼靶订单（京东方B9线），并现已稳定供货。晶联光电在TFT领域实现了国产ITO靶材在TFT客户ARRAY立项的“零”的突破。公司顺利通过华星光电G4.5（测试线）测试，并新增了重庆京东方G8.5、信利半导体G5和信利惠州G4.5三家TFT客户测试立项。通过与四丰电子在市场营销方面充分发挥协同效应，逐步成为华星光电、信利、京东方的靶材供应商。4.1.1有研新材（600206.SH）——深耕新材料业务的控股型企业，封装靶材国内领先若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 有研新材是一家集稀土、高纯金属靶材、光电材料等新材料领若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com域业务为一体的控股公司。公司的主营业务为超高纯金属及稀贵金属材料、高端稀土功能材料、生物医用材料、微电子光电子用薄膜材料、红外光学及光纤维等新材料的研发与制备。其中，公司旗下子公司有研亿金高纯金属靶材的研发和产业化能力均处于国内领先地位，产品主要应用于半导体芯片、LED、光伏等行业。目前，有研亿金在国内已经开发了30多种金属靶材，逐步占领集成电路国内4—6英寸市场，正在进入8英寸以上市场，并形成一定的规模化生产。2017年，公司稀土材料、高纯/超高纯金属材料、光电材料、医疗器械材料、红外光学、光纤材料的营收占比分别为33.53%、31.25%、2.61%、1.71%、1.66%。图表42：有研新材主要产品业务名称收入比例主要用途稀土材料33.53%主要生产稀土金属、稀土合金等产品高纯/超高纯金属材料31.25%子公司有研亿金是国内唯一具备从超高纯原材料到溅射靶材、蒸发膜材垂直一体化研发、生产能力的产业化平台，产品涵盖电子信息行业用的全系列高纯金属材料、溅射靶材和蒸发膜材。光电材料2.61%有研光电主要经营光电半导体材料，专注于红外锗单晶以及水平GaAs生产。其中锗单晶主要用于红外探测和成像系统的窗口、透镜、棱镜等；水平GaAs主要用于红外和红色LED的主要衬底材料。医疗器械材料1.71%在“新医改”政策改革及国产替代进口政策环境背景下，我国医疗器械行业发展前景广阔。在医疗器械领域，公司开发了牙弓丝、非血管支架、齿科贵金属合金等产品，有的甚至是国内首创。红外光学、光纤材料1.66%广泛应用于红外热成像系统、激光加工设备、光纤预制棒等高科技领域。资料来源：公司公告，方正证券研究所公司收入规模不断增长，盈利能力日趋改善。近年来公司营业收入持续增长，至2017年，公司营业收入已达40.80亿元，同比增长7.13%，对应净利润0.44亿元，其中子公司有研亿金贡献净利润0.15亿元。图表43：有研新材财务指标项目单位201520162017营业收入亿元25.9038.0840.80YOY%5.5247.057.13净利润亿元0.300.480.44YOY%-49.6457.86-9.05毛利率%8.286.176.57净利率%1.281.331.14资产负债率%5.958.459.43ROE%1.101.701.53资料来源：公司公告，方正证券研究所公司通过长期技术积淀成为国内封装材料领域龙头。截至2017若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本 股票报告网整理http://www.nxny.com年底，公司拥有自主研发知识产权700余项，其中发明专利600余项；2017年申请的11项国家重点研发计划项目通过科技部立项批准，纵向科研经费到款2700余万元。十二五期间，有研亿金突破了超高纯铜、超高纯钴、超高纯贵金属等基础原材料的提纯和熔铸关键技术，解决了高性能溅射靶材合金化、微观组织控制、结构设计、表面处理、磁学性能等关键技术难题，建立了全系列超高纯材料性能评价方法和检测标准。同时，公司在集成电路先进封装用高纯金属靶材领域，通过集中攻关，全面打破国外企业对我国先进封装材料领域内的技术封锁和垄断，成为该领域的龙头企业。4风险提示行业竞争加剧的风险。若现有靶材制造厂商加大对行业的投入力度，或有新的竞争对手突破行业技术、资金和规模等壁垒，进入靶材制造行业，将导致行业竞争加剧、行业利润水平下滑。下游行业增速放缓的风险。如果未来靶材对应下游行业如消费类电子产品整体增速放缓，将带来靶材市场需求萎缩，相关公司的经营业绩存在大幅下降的可能性。若出现排版错位、数据及图形显示不全等问题，可以凭下载记录，加微信535600147获取PDF版本'